Volume 08, No.5 Pages 286 - 293

　SPring-8は、平成9年10月の供用開始から、これまで数多くの研究者に利用されてきておりますが、今後更なる有効利用を図ると共に、世界に冠たる成果を輩出していきたいと考えております。

　このため、（財）高輝度光科学研究センター（ＪＡＳＲＩ）では、充分に研究を行って頂けるように課題選定に工夫を凝らす等、効果的な支援を行って参ります。SPring-8では、赤外線から硬Ｘ線までの広い波長範囲の高輝度放射光ビーム及び先端的な測定装置を備えていますが、これらの設備を活用し、最先端の研究開発や社会に貢献する産業利用などを目指した研究課題を一般課題および長期利用課題として募集いたします。

　また、ＪＡＳＲＩではナノテクノロジー総合支援プロジェクト課題、トライアルユース課題およびタンパク3000プロジェクト個別的解析プログラムを重点領域課題として指定を行い、このうちナノテクノロジー総合支援プロジェクト課題およびトライアルユース課題を公募します。これらの課題は一般課題とは別の課題審査により選定されます。それぞれ本誌294ページの「ナノテクノロジー総合支援プロジェクト課題の募集について」および297ページの「トライアルユース課題の募集について」を参照しご応募ください。

1．平成16年前期（2004A）利用期間

　平成16年2月26日～平成16年7月中旬（全ユーザービームタイム250シフト程度）の予定

2．応募締め切り

　平成15年11月4日（火）午前10時　利用業務部必着

　（国内からの応募は11月2日（日）消印有効とします）

　申請書の受理通知は11月28日（金）までに電子メールで行います。

3．対象となるビームライン

　募集の対象となるビームラインを表1に示します。今回2004Ａから、高輝度ＸＡＦＳステーションはBL37XUに移動しました。ご応募の前にビームライン・ステーションの整備状況をSPring-8のホームページでご確認ください。

　また、初めて利用される場合などビームライン・ステーションに関する不明な点はホームページに記載されているビームライン担当者等までお問い合わせください。またビームタイムの一部が共同利用に供出される物質・材料研究機構の専用ビームライン、原研ビームラインおよび理研ビームラインへの申請を考えておられる方は、申請前にそれぞれのビームラインの担当者に予めお問い合わせください。

4．分野ごとに特徴ある課題選定について

［1］BL02B1（単結晶構造解析ビームライン）

　B期から始まる1年課題の試行の最終年で、本04Ａ期は04A期のみ有効な課題を募集します。

［2］ＸＡＦＳ

　長時間のビームタイムを要望される課題で、新しい応用分野ないし挑戦的な研究、あるいは実験・解析技術の習得が必要なため、本格的に長時間の実験を行う前に予備実験が必要であると判断された課題についてはまず予備実験に必要なビームタイムが配分されます。申請者は配分されたビームタイムで実験を行いその実験・解析結果を報告し評価を受けた後要望されている残りのビームタイムが配分されることになります。

5．提供するビームタイム

［1］共用ビームライン：200シフト～130シフト程度　（全ユーザービームタイムの80～50％）

　重点課題を実施しないビームラインは一般課題に200シフト程度を提供する予定です。重点ナノテクノロジー支援領域に指定されたナノテクノロジー総合支援プロジェクトの支援対象ビームライン7本については、一般課題に150シフト程度を提供する予定です。また、重点タンパク500領域に指定されたタンパク3000プロジェクトにおけるタンパク質の個別的解析プログラムの課題を実施するBL40B2およびBL41XUは一般課題にそれぞれ170および120シフト程度を提供する予定です。重点産業利用領域のトライアルユース課題を行うビームラインについては本誌297ページを参照ください。

［2］R&Dビームライン（共用ビームラインBL38B1，BL46XU，BL47XU）

　BL38B1は一般課題に39シフト程度、BL46XUおよびBL47XUは、一般課題に50シフト程度を提供する予定です。

［3］原研ビームライン（BL11XU, BL14B1, BL23SU）：50シフト程度

　すべてナノテクノロジー研究の支援対象ビームライン。

　なお、応募の前に原研の担当者にお問い合わせください。

［4］理研ビームライン（BL19LXU，BL29XU，BL44B2，BL45XU）：50シフト程度

　なお、応募の前に理研の担当者にお問い合わせください。

［5］物質・材料研究機構　物質研究所専用ビームライン（BL15XU）：50シフト程度

　ナノテクノロジー研究の支援対象ビームライン。

　応募の前に物質研究所の担当者（福島整FUKUSHIMA.Sei@nims.go.jp）迄お問い合わせください。

6．2004Aのセベラルバンチ運転モード（申請書の7参照）

　2004Aに行う運転モードは以下のとおりです。

　Aモード：203bunches（蓄積リング全周において等間隔に203個のバンチに電子が入っている。）

　Bモード：4-bunch train×84（連続4バンチのかたまりが、全周において等間隔に84ある。）

　Cモード：11-bunch train×29（連続11バンチのかたまりが、全周において等間隔に29ある。）

＊Dモード：2/21-filling +18bunches（全周を21等分し、2/21には連続して73mA相当の電子が入り、残りの部分は等間隔18カ所に各1.5mA相当のバンチがある。）

＊Eモード：10/84-filling +73bunches（全周を84等分し、10/84は連続して約64mA相当の電子が入り、残りの部分に等間隔に73バンチ合計約36mA相当の電子がはいっている。）

＊上記のDおよびEモードはA期（2004A, 2005A,…）のみ運転します。B期（2004B,…）のDおよびEモードはそれぞれ1/12-filling +10 bunchesおよび6/42-filling +35 bunchesの予定です。

7．応募方法

［1］成果非専有課題

　SPring-8利用研究課題申請書（成果非専有用）を記入要領に従い作成し、正本1部、副本15部を項目10の提出先までお送り下さい。副本の作成方法は項目9に示します。

［2］成果専有課題

　SPring-8利用研究課題申請書（成果専有用）を記入要領に従い作成し正本1部、副本5部を項目10の提出先までお送り下さい。副本の作成方法は項目9に示します。

　成果専有課題を申請される場合は、別途料金支払い等に関する契約を結んでいただく必要がありますので、利用業務部にお問い合わせ下さい。

8．申請書

　成果非専有用、成果専有用の申請書の別があり、各申請書は蛋白質結晶構造解析用申請書とそれ以外（散乱・回折、ＸＡＦＳ、分光、実験技術、産業利用）用があります。以下の、SPring-8のホームページからダウンロードしてください。ＰＤＦ形式ファイルと一部Wordで供給しています。

［利用研究課題募集案内のホームページアドレス］

http://www.spring8.or.jp/j/for_users.html（日本語）

http://www.spring8.or.jp/e/for_users-e.html（英語）

9．副本について

　作成された申請書A4版の正本の1，2頁を表面に、また3，4頁を裏面としてA4版1枚に左綴じで読めるようにした縮小両面コピー。（蛋白質結晶構造解析の課題で原本が5枚になった場合は5頁目を同様に縮小コピーし副本の2枚目として下さい。）

10．申請書提出・問い合わせ先

　〒679-5198 兵庫県佐用郡三日月町光都1-1-1

　（財）高輝度光科学研究センター　利用業務部

　「共用ビームライン利用研究課題募集係」

　　平野有紀、平野志津

　TEL：0791-58-0961 FAX：0791-58-0965

　e-mail：sp8jasri@spring8.or.jp

成果専有課題を郵送される場合は封筒に「専有」と朱書して下さい。

11．申請書作成上のお願い

［1］審査希望分野について

　分野の区分を細分化しました。以下の審査分野から一番ふさわしいと思われる分野を選んで記号で記入してください。（例　L1、D1a, Ｍ）

［2］課題の種類（新規／継続）について

　SPring-8の課題は6カ月の間に実行できる範囲の具体的な内容で申請してください。SPring-8の継続課題は、前回申請した課題が、なんらかの理由により終了しなかった時に申請していただくものです。研究そのものが何年も続いていくことと、SPring-8の継続課題とは別に考えてください。前回採択された課題のビームタイムを終了されて、研究が続く場合は新規課題の申請を行ってください。

［3］実験責任者について

　実験の実施全体に対してSPring-8の現場で責任をもつ人が実験責任者となってください。

審査希望分野表

　　　　　記号　　審査分野

生命科学

　　　　　L1　　蛋白質結晶構造解析

　　　　　L2a　 生体試料小角散乱

　　　　　L2b　 合成高分子など小角散乱

　　　　　L3　　医学利用、メディカルイメージング

散乱回折

　　　　　D1a　遷移金属酸化物、強相関電子系物質、希土類化合物、誘電体

　　　　　D1b　有機結晶、有機金属結晶、フラーレン結晶、液晶

　　　　　D1c　金属、金属間化合物、準結晶、アモルファス、液体

　　　　　D1d　表面界面構造、ナノ粒子構造

　　　　　D2a　高圧物性

　　　　　D2b　地球科学（高圧）

　　　　　D3a　コンプトン散乱

　　　　　D3b　核共鳴散乱

　　　　　D3c　トポグラフ

　　　　　D3d　非弾性散乱（IXS）

XAFS・蛍光分析

　　　　　Xa　　XAFS

　　　　　Xb　　蛍光Ｘ線分析

分光

　　　　　Sa　　固体電子分光、赤外物性

　　　　　Sb　　光化学

　　　　　Sc　　MCD（軟Ｘ線、硬Ｘ線）

実験技術、方法等

　　　　　M　　実験技術、実験方法、放射光による材料創製

産業利用

　　　　　I　　産業利用