Volume 14, No.4 Pages 252 - 259
1. SPring-8の現状／PRESENT STATUS OF SPring-8
2010A SPring-8利用研究課題募集の概要
Call for 2010A SPring-8 Research Proposals – Overview –
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SPring-8利用研究課題の申請をお考えの方は、下記をご覧の上、申請いただけますようお願いいたします。
1. 特記事項
（1）今期提供シフト249シフト
2010A期提供シフトは、249シフト（2009A期243シフト）を予定しております。詳細な提供シフトは、各課題募集をご覧ください。なお、予算内容によって各提供シフトが変更になる場合があります。その旨ご了承ください。
（2）重点拡張メディカルバイオ課題、メディカルバイオ・トライアルユース課題終了
重点拡張メディカルバイオ課題、メディカルバイオ・トライアルユース課題は、2009B期で終了となりましたのでご注意ください。
（3）2010A期締切
一般、ナノテク、産業、萌芽課題：
平成21年12月17日（木）午前10時JST（提出完了時刻）
長期利用課題：
平成21年11月26日（木）午前10時JST（提出完了時刻）
成果公開・優先利用課題：
平成21年11月25日（水）午前10時JST（提出完了時刻）
2. 申請者必須事項
（1）ユーザー登録（既にお済みの方は不要）
Webサイト（UIサイト）を利用した電子申請時にユーザーカード番号とパスワードでログインする必要があります。ユーザー登録を行ってください。
UIサイトURL（User Information）：http://user.spring8.or.jp/
注）申請者（実験責任者）だけでなく共同実験者も ユーザー登録が必要です。これらの情報は、採否通知の送付等に使用しますので、定期的な情報の更新をお願いいたします。
（2）SPring-8への放射線作業従事者登録（採択前の登録可）
我が国の法律（放射線障害防止法）に従い、全ての利用者に対し放射線業務従事者登録を行っていただきます。「放射線業務従事者登録申請書（様式5-1）」に必要事項を記入し提出してください。一度ご登録いただいても年度末に解除させていただいておりますので、事前に登録状況の確認をお願いいたします。
（3）その他
● 化学薬品等の追加持ち込みに関する制限
ご利用日間近の持ち込み物品（薬品）の追加（変更）に関しては、対応できない場合があります。大量に追加する場合などは、「6．問い合わせ先」にご相談ください。
● 単独実験・作業の禁止
安全上の観点から原則として単独でのご利用はお断りしております。共同実験者を募って申請（実施）してください。
● 装置の故障、災害発生時およびインフルエンザ等発生時の措置
状況によって、採択時のビームタイムを手配できない場合があります。ご了承ください。
● 共同実験者の追加に関して
ご利用日間近に放射線作業従事者登録がお済みでない方の追加には、対応できない場合があります。その旨ご了承ください。
3. 募集課題一覧
SPring-8の利用には、大きく分けて、成果専有利用と成果非専有利用の2つの利用形態があります。成果専有利用では、審査が簡略化され、成果公開の義務がない代わりに、利用時間に応じたビーム使用料が課せられます。成果非専有利用では、論文等により研究成果を公表していただくかわりにビーム使用料は無料となります。なお、学生（実施時D1, D2, D3）の方の申請は、萌芽的研究課題のみになります（共同実験者としての参加は学年を問わずOK）。2010Aに募集する課題は表1に示すとおりです。詳細は課題名からリンク先の各課題募集をご覧ください。
表1 2010A期募集課題一覧
| 課 題 種 | 特 徴 | 審査 | 成果専有 | 掲載ページ |
|---|---|---|---|---|
| SPring-8共用ビームライン 利用研究課題（一般課題） |
SPring-8の基本的課題。 | 年2回 | 可 | 260ページ |
| 重点ナノテクノロジー支援課題 およびナノネット支援課題 |
ナノテクノロジー分野を募集。 | 年2回 | 不可 | 264ページ |
| 重点産業利用課題 | 産業利用を目的とした募集。 | 年4回 | 不可 | 267ページ |
| 萌芽的研究支援課題 | 若手学生（実施時D1, D2, D3）が対象の募集。 分野的制限はなし。 |
年2回 | 不可 | 271ページ |
| 長期利用課題 | 3年間有効の募集。 分野的制限はないが長期利用の根拠が必要。 |
年2回 | 不可 | 273ページ |
| 成果公開・優先利用課題 | 国内審査を伴った競争的資金を得た者が対象。 技術・安全審査のみにより実施。 |
年2回 | 不可 | 275ページ |
4. ビームライン一覧
各ビームラインの概要を表2に示します。なお、ビームライン・ステーションの整備状況はSPring-8ホームページの「ビームライン一覧」（トップページ＞クイックリンク＞ビームライン情報＞ビームライン一覧）でも提供していますので、不明な点はそれぞれのビームライン担当者にお問い合わせください。
表2 ビームライン概要
■共用ビームライン
| No. | ビームライン名 | 研究分野 |
| 実験ステーション／装置、光源（試料位置でのエネルギー範囲等） | ||
| 1 | BL01B1：XAFS | 広エネルギー領域（3.8～113 keV）、希薄・薄膜試料のXAFS、クイックスキャンによる時分割XAFS（時分割QXAFS）、深さ分解XAFS |
| XAFS測定装置、イオンチャンバー、ライトル検出器、19素子Ge検出器、転換電子収量検出器、2次元PILATUS検出器、ガス供給除害設備、偏向電磁石（3.8～113 keV） | ||
| 2 | BL02B1：単結晶構造解析 | 微小単結晶構造解析（X線エネルギー : 5～115 keV）、高分解能データによる精密構造解析、外場応答による構造相転移の探索、磁気共鳴X線散乱 |
| 大型湾曲IPカメラ（温度可変や外場応答の実験では、申請に先立って事前にビームライン担当者との打ち合せを必要とする）、多軸回折計、偏向電磁石（5～115 keV） | ||
| 3 | BL02B2： 粉末結晶構造解析 |
マキシマムエントロピー法による電子密度レベルでの構造解析、構造相転移の研究、粉末回折データからの未知構造決定、リートベルト法による構造精密化、薄膜回折、ガス吸着下粉末回折、光励起下粉末回折 |
| 湾曲型イメージングプレート搭載大型デバイシェラーカメラ、偏向電磁石（12～35 keV） | ||
| 4 | BL04B1：高温高圧 | 大容量高圧プレス装置を使った構造相転移観察、超音波速度測定 |
| SPEED-1500、SPEED-Mk.II、エネルギー分散型X線回折計、X線ラジオグラフィー、イメージングプレート回折計、超音波測定システム、偏向電磁石（白色20～150 keV） | ||
| 5 | BL04B2： 高エネルギーX線回折 |
ガラス・液体・アモルファス物質の構造研究、高圧下のX線回折実験、精密単結晶構造解析 |
| 非晶質物質用二軸回折計、ワイセンベルグカメラ、超臨界融体用X線小角散乱用回折計、ダイヤモンドアンビルセル用イメージングプレート回折計、偏向電磁石（Si111 : 37.8 keV、Si220 : 61.7 keV） | ||
| 6 | BL08W： 高エネルギー非弾性散乱 |
磁気コンプトン散乱測定、高分解能コンプトン散乱測定、高エネルギーX線回折、高エネルギーX線蛍光分析（XRF） |
| 磁気コンプトン散乱スペクトロメータ、高分解能コンプトン散乱スペクトロメータ、高エネルギー蛍光X線スペクトロメータ、楕円偏光ウィグラー（ステーションA : 110～300 keV、ステーションB : 100～120 keV） | ||
| 7 | BL09XU：核共鳴散乱 | 核共鳴非弾性散乱を利用した振動状態の研究、放射光でのメスバウアー分光、電子遷移に伴う核励起（NEET）、核共鳴散乱を利用したコヒーレント光学、表面構造や残留応力の測定 |
| エアパットキャリア付定盤、精密ゴニオメータ、4象限スリット、真空ポンプ（スクロールポンプとターボ分子ポンプ）、クライオスタット、APD検出器、PINフォトダイオード検出器、NaIシンチレーション検出器、イオンチャンバー、 真空封止アンジュレータ（6.2～80 keV） | ||
| 8 | BL10XU：高圧構造物性 | 高圧下（DACを使用）での結晶構造物性および相転移、地球・惑星科学 |
| 超高圧ダイヤモンドアンビル装置（350 GPa）、イメージングプレート回折計、イオンチャンバー、ダイヤモンドモノクロメータ、X線集光レンズ、ルビー圧力測定装置、ラマン分光装置（圧力測定用）、高圧用クライオスタット（150 GPa、10～300 K）、レーザー加熱システム（300 GPa、3,000 K）（レーザー加熱システムの利用申請にあたっては、事前にBL担当者に連絡のこと）、真空封止アンジュレータ（15～58 keV） | ||
| 9 | BL13XU： 表面界面構造解析 |
超薄膜、ナノ構造、結晶表界面の原子レベル構造解析、真空／固体・液体／固体・各界面でのナノ構造成長などのその場構造解析、電場印加中の薄膜のその場構造評価 |
| 実験ハッチ1：多軸回折計、マイクロビーム、時分割X線回折 実験ハッチ3：超高真空用回折計、試料表面作製用超高真空チャンバー、マイクロビーム回折計Ge半導体検出器、SDD検出器、YAP検出器、Si Pin フォトダイオード検出器、イオンチャンバー、NaI検出器、精密架台 実験ハッチ2：ユーザー持ち込み装置等 BL13XUを初めて利用される場合、また、これまでとは異なる測定法を利用される場合、BL担当者（坂田：o-sakata@spring8.or.jp、田尻：tajiri@spring8.or.jp）まで申請前に打ち合わせをされることを希望。 |
||
| 10 | BL14B2：産業利用 II | 広帯域XAFS測定（3.8～72 keV）、希薄・薄膜試料のXAFS測定、クイックスキャンによる時分割XAFS（時分割QXAFS） |
| XAFS測定装置、イオンチャンバー、19素子Ge半導体検出器、ライトル検出器、転換電子収量検出器、 クライオスタット（20 K～室温）、透過法用高温セル（室温～800℃）、ガス供給排気装置（申請にあたっては事前にビームライン担当者（本間）に連絡のこと）、偏向電磁石（3.8～72 keV） | ||
| 11 | BL19B2：産業利用 I | 残留応力測定、薄膜構造解析、表面、界面、粉末X線回折、X線イメージング、X線トポグラフィ、極小角散乱 |
| 粉末回折装置、多軸回折計、X線イメージングカメラ、極小角散乱装置（極小角散乱は多軸回折計に試料を設置して第3ハッチの2次元検出器（IP等）を用いて測定を行います。）、偏向電磁石（3.8～72 keV） | ||
| 12 | BL20B2： 医学・イメージング I |
micro-radiography、micro-angiography、micro-tomography、refraction-contrast imagingなどが主として利用されている技術である。医学利用研究を目的とした、小動物の実験を実施する事も可能。光学素子の評価やX線イメージングの基本技術の研究開発。 |
| 汎用回折計、高分解能画像検出器（分解能10 μm程度）、大面積画像検出器（視野12 cm四方）、中尺ビームライン（215 m）、最大ビームサイズ（300 mm（H）× 15 mm（V）；実験ハッチ2、3、60 mm（H）× 4 mm（V）；実験ハッチ1）、偏向電磁石（5～113 keV） | ||
| 13 | BL20XU： 医学・イメージング II |
X線顕微イメージング：マイクロビーム／走査型X線顕微鏡、投影型マイクロCT、位相コントラストマイクロCT、X線ホログラフィー、コヒーレントX線光学、集光／結像光学系をはじめとする各種X線光学系や光学素子の開発研究 医学応用：屈折コントラストイメージング、位相コントラストCT、極小角散乱 |
| イメージング用精密回折計、液体窒素冷却型標準二結晶モノクロメータ：Si111（7.62～37.7 keV）、又は511（～113 keV）、イオンチャンバー、シンチレーションカウンタ、Ge-SSD、高分解能画像検出器（ビームモニタ、X線ズーミング管）、位相CTおよび吸収マイクロCT（担当者との事前打ち合せ要）、試料準備用クリーンブース（リング棟実験ホール）、X線イメージインテンシファイア（Be窓、4インチ型）、水平偏光真空封止アンジュレータ（7.62～113 keV） | ||
| 14 | BL25SU： 軟X線固体分光 |
光電子分光（PES）による電子状態の研究、角度分解光電子分光（ARPES）によるバンド構造の研究、軟X線吸収磁気円二色性（MCD）による磁気状態の研究、MCDを用いた元素選択磁化曲線による磁性材料の研究、光電子回折（PED）による表面原子配列の解析、光電子顕微鏡（PEEM）による磁区観察 |
| 光電子分光装置、磁気円二色性測定装置、二次元表示型光電子分光装置、光電子顕微鏡、なお、二次元表示型光電子分光装置については、申請に先立って事前にビームライン担当者（中村）との打ち合せを必要とする。また、光電子顕微鏡については、新規申請者の場合には申請に先立って事前にビームライン担当者（中村）との打ち合せを必要とする。ツインヘリカルアンジュレータ（0.22～2 keV） | ||
| 15 | BL27SU：軟X線光化学 | 照射実験 --- Bブランチ：機能性材料薄膜の生成、機能性材料の改質 原子・分子・クラスター分光実験 --- Cブランチ（C1、C2 ステーション）：気相原子・分子の高分解能光電子分光（CIS、CFS測定も可能）、原子・分子・クラスターの高分解能軟X線吸収分光、質量分析法による原子クラスター・分子クラスターの解離生成物の観測 固体分光実験 --- Cブランチ（C3 ステーション）：固体試料の光電子分光・発光分光、固体電子状態の観測 |
| AならびにBブランチ（軟X線照射実験ステーション）、Cブランチ（軟X線光化学実験ステーション I、軟X線光化学実験ステーション II、軟X線光化学実験ステーション III）、8の字アンジュレータ（A、Bブランチ : 0.2～2 keV、Cブランチ : 0.17～2.8 keV） | ||
| 16 | BL28B2：白色X線回折 | 白色X線回折：X線トポグラフィ・エネルギー分散型ひずみ測定、時分割 エネルギー分散型XAFS（DXAFS）：化学的・物理的反応過程の研究 医学生物応用：放射線治療・生体イメージング |
| 白色X線トポグラフィ装置、エネルギー分散型XAFS装置、医学生物応用実験装置、多目的回折計、偏向電磁石（白色5 keV～） | ||
| 17 | BL35XU： 高分解能非弾性散乱 |
フォノン、ガラス転移、液体のダイナミクス、原子拡散などを含めた物質中のダイナミクス、X線非弾性散乱および核共鳴散乱 |
| X線非弾性散乱（水平散乱配置）（～1 to 100 nm-1、12 Analyzers）、真空封止アンジュレータ（15.816、17.794、21.747 keV） | ||
| 18 | BL37XU：分光分析 | X線マイクロビームを用いた分光分析、極微量元素分析、高エネルギー蛍光X線分析 |
| 実験ハッチ1：X線顕微鏡、多目的回折計、汎用蛍光X線分析装置、高エネルギー蛍光X線分析装置 実験ハッチ2：斜入射X線分光器、低真空SEM 真空封止アンジュレータ（Aブランチ：5～37 keV、Bブランチ：75.5 keV） |
||
| 19 | BL38B1：構造生物学 III | タンパク質のルーチン結晶解析 |
| 凍結結晶自動交換装置SPACEとデータ測定用WebインターフェースD-Chaを利用したタンパク質結晶高速データ収集システム 偏向電磁石（6～17.5 keV） ビームサイズ（試料位置）：φ 0.2 mm, 0.15（H）× 0.13（V）mm2, 0.10（H）× 0.13（V）mm2 高速X線CCD検出器Quantum210（ADSC） 低温窒素ガス吹付け装置（≥ 90 K） ペルチェ冷却型Si-PINフォトダイオード 凍結結晶自動交換装置SPACE SPACE用結晶マウントロボット SPACE用結晶マウントツールキット オンライン顕微分光装置（波長範囲：250～500 nm、300～750 nm） ＊顕微分光装置の利用を希望される方は、課題申請時に担当者と要相談。 |
||
| 20 | BL39XU：磁性材料 | X線磁気円二色性分光（XMCD）および元素選択的磁化測定、X線発光分光およびその磁気円二色性、X線共鳴磁気散乱、マイクロビームを用いたXMCD磁気イメージング・微小領域・微小試料のXMCDおよび元素選択的磁化測定、高圧下でのXAFSおよびXMCD測定、水平・垂直直線または円偏光を用いたX線分光 |
| ダイヤモンド円偏光素子（X線移相子、5～16 keVで使用可能）、X線磁気円二色性（XMCD）測定装置＋磁場発生装置（電磁石（2 T）、超伝導磁石（10 T））、X線磁気散乱用4軸回折計（Huber 424 + 511.1）（担当者との事前打ち合せ必要）、低温装置（ヘリウム循環型クライオスタット（20～300 K）、超伝導磁石（2～300 K）、ヘリウムフロー型冷凍機（11～330 K））、高圧発生装置（DAC、常圧～50 GPa＠室温、常圧～20 GPa＠低温）（担当者との事前打ち合せ必要）、高圧XMCD用KBミラー（集光ビームサイズ < φ 15 μm、W.D. = 360 mm）（担当者との事前打ち合せ必要）、顕微XMCD用KBミラー（集光ビームサイズ < φ 2 μm、W.D. = 100 mm）（担当者との事前打ち合せ必要） | ||
| 21 | BL40B2：構造生物学 II | X線小角散乱（SAXS） |
| イメージングプレート、イメージインテンシファイア+CCDカメラ、広角測定用フラットパネル検出器およびDSC（これらは、申請にあたって事前にビームライン担当者との打ち合せを必要とする）、偏向電磁石（6～17.5 keV） | ||
| 22 | BL40XU：高フラックス | 時分割回折および散乱実験、X線光子相関分光法、蛍光X線分析、マイクロビームを用いた回折および散乱実験、時分割クイックXAFS（時分割QXAFS） |
| X線シャッター、高速CCDカメラ、X線イメージインテンシファイア、YAG laser、小角散乱用真空パス、ピンホール光学系、ヘリカルアンジュレータ（8～17 keV） | ||
| 23 | BL41XU：構造生物学 I | 構造生物学、生体高分子X線結晶構造解析、超高分解能構造解析、微小蛋白質結晶構造解析 |
| タンパク質結晶用回折装置 真空封止アンジュレータ（6～38 keV） ビームサイズ（試料位置）：φ 0.01 mm, φ 0.02 mm, 0.03（H）× 0.03（V）～0.1（H）× 0.07 mm2 大型高速X線CCD検出器Quantum315（ADSC） 大型イメージングプレート検出器R-AXIS V（Rigaku） 低温窒素ガス吹付け装置（≥ 90 K） 低温Heガス吹付け装置（≥ 35 K） ペルチェ冷却型Si-PINフォトダイオード 凍結結晶自動交換装置SPACE カメラ長自動追従型Heチャンバー（X線CCD検出器Quantum315専用） ＊19keV以上のエネルギーを利用希望の場合は、課題申請時にビームライン担当者と要相談。 ＊CCDとIP検出器が利用できますが、IPを希望される場合は課題申請時にビームライン担当者と要相談。 |
||
| 24 | BL43IR：赤外物性 | 赤外顕微分光、磁気光学分光 |
| 赤外顕微分光ステーション、磁気光学分光ステーション、波数域：100～20,000 cm-1 | ||
| 25 | BL46XU：産業利用 III | X線回折および反射率測定による薄膜試料の構造評価、残留応力測定、時分割X線回折測定、硬X線光電子分光 |
| 多軸X線回折計（HUBER製8軸回折計／C型χクレードル装備：微小角入射X線回折･散乱、反射率測定、残留応力測定、その他X線回折・散乱測定一般）、硬X線光電子分光装置、薄膜構造評価専用X線回折装置（リガク製 ATX-G：常設ではありません。ご希望に応じて実験ハッチに設置いたします。）、真空封止アンジュレータ（6～35keV） | ||
| 26 | BL47XU： 光電子分光・マイクロCT |
X線光学、惑星地球科学、物性科学、応用材料科学 |
| 高分解能X線CT装置、硬X線マイクロビーム／走査型顕微鏡実験、硬X線光電子分光装置：高エネルギー硬X線励起による光電子分光：固体内部および界面電子状態の観測（光電子運動エネルギー範囲：0～10 keV、測定可能温度領域：8～600 K程度）BL47XUの利用経験が無い場合は、申請前にビームライン担当者と相談すること。真空封止アンジュレータ（5.2～37.7 keV） | ||
■理研ビームライン
| No. | ビームライン名 | 研究分野 |
| 実験ステーション／装置、光源（試料位置でのエネルギー範囲等） | ||
| 27 | BL17SU： 理研 物理科学 III |
電子分析器付き光電子顕微鏡 --- Ac station イメージモード、回折モード、分散モード等による微小領域（数十nm）の構造および電子状態観測
この他、多価イオン光吸収実験装置、光電子分光装置、軟X線発光分光装置、軟X線回折実験装置、表面科学実験ステーション等の装置類がある。 |
| BL17SUへの共同利用申請の際には、事前に以下の各実験装置担当者との打ち合せを必要とする。 光電子分光装置：理研 Ashish Chainani（chainani @spring8.or.jp） 軟X線発光分光装置：理研 徳島（toku@spring8.or.jp） 多価イオン光吸収実験装置：理研 大浦（oura@spring8.or.jp） 電子分析器付き光電子顕微鏡：JASRI 小嗣（kotsugi@spring8.or.jp） 軟X線回折実験：理研 田中（良）（ytanaka@riken.jp） 表面科学実験ステーション：理研 高田（takatay@spring8.or.jp） |
||
| 28 | BL26B1 / B2： 理研 構造ゲノム I & II |
X線結晶解析法に基づいた構造ゲノム研究 |
| CCD検出器（RIGAKU Jupiter210, MarUSA MarMosaic225）、IP検出器（RIGAKU R-AXIS V）、試料用κゴニオメータ、吹付低温装置（90 K～室温）、サンプルチェンジャーSPACE、偏向電磁石（6～17 keV） | ||
| 29 | BL45XU： 理研 構造生物学 I |
X線小角散乱（SAXS）: 主にタンパク質溶液、生体高分子など |
| （共同利用はSAXSステーションのみ） 高分解能小角散乱カメラ（試料－検出器距離450、700、1500、2400、3400 mm） CCD型X線検出器（6インチX線II）、IP検出器（RIGAKU R-AXIS IV++） 精密温度制御セル（－5～+80℃） 真空封止型垂直アンジュレータ（SAXSステーション：6.7～13.8 keV、フラックス～1012 photons/sec） |
||
■専用ビームライン
（ナノネット支援課題のみの募集となります）
| No. | ビームライン名 | 研究分野 |
| 実験ステーション／装置、光源（試料位置でのエネルギー範囲等） | ||
| 30 | BL11XU： JAEA量子ダイナミクス |
III-V族半導体結晶成長のその場観察、共鳴X線非弾性散乱 |
| X線非弾性散乱回折計、分子線エピタキシー（MBE）回折計 申請に先立って事前にビームライン担当者および各実験装置担当者との打ち合せを必要とする。 ビームライン（高橋：mtaka@spring8.or.jp） 非弾性散乱（石井：kenji@spring8.or.jp） 表面・界面科学（高橋：mtaka@spring8.or.jp） 真空封止アンジュレータ（6～70 keV） |
||
| 31 | BL14B1： JAEA物質科学 |
高圧下の物質科学、表面科学、PDF、XAFS |
| 実験ハッチ1：キュービックアンビル型高温高圧発生装置 実験ハッチ2：カッパ型多軸回折計 申請に先立って、事前にビームライン担当者および各実験装置担当者との打ち合せを必要とする。 高圧下の物質科学（片山：katayama@spring8.or.jp） それ以外（米田：yoneda@spring8.or.jp） 偏向電磁石（単色：5～90 keV、白色：50～150 keV） |
||
| 32 | BL15XU： NIMS広エネルギー帯域先端材料解析 |
先端材料の高精度解析、高エネルギーX線励起による光電子分光、高精度X線粉末回折 |
| 高分解能角度分解光電子分光装置、高分解能粉末X線回折計 利用希望の場合は、事前に物材機構・スタッフ（連絡先：BL15XUoffice@ml.nims.go.jp）との打ち合せを お願い致します。 高分解能角度分解光電子分光（光電子の運動エネルギー：10 keVまで） 高分解能粉末X線回折計（8 keVでのSi粉末111反射の半値全幅は通常0.07度未満） 装置持ち込みの場合は申請に先立って十分な日程の余裕を持った技術的可否の打ち合せが必要です。 リボルバー型アンジュレータ（2～36 keV） |
||
| 33 | BL22XU： JAEA量子構造物性 |
高圧下の物質科学、共鳴X線回折（RI 実験棟での研究）、残留応力分布測定 |
| 共同利用申請の際には、事前に以下の実験担当者との打ち合せを求める。 高圧下の物質科学（片山：katayama@spring8.or.jp） 共鳴X線回折（大和田：ohwada@spring8.or.jp） 残留応力測定（菖蒲：shobu@spring8.or.jp） 真空封止アンジュレータ（3～70 keV） |
||
| 34 | BL23SU： JAEA重元素科学 |
超音速分子線を用いた表面化学、生物物理学的分光、光電子分光（RI棟）、磁気円二色性（RI棟） |
| BL23SUの各実験装置に際しては、以下の装置担当者と事前打ち合せを必要とする。 表面化学反応分析装置（寺岡：yteraoka@spring8.or.jp） ESR装置（藤井：fujii.kentaro@jaea.go.jp） 光電子分光装置および磁気円二色性装置（斎藤：ysaitoh@spring8.or.jp） 真空封止型ツインヘリカルアンジュレータ（0.4～1.7 keV） |
||
5. ビームライン別課題募集一覧
今回ビームラインごとに募集している課題の一覧を表3に設けました。申請時にご活用ください。
表3 2010A ビームライン別募集課題一覧
| 共用ビームライン（26本） | 一般 | 長期 | 成果公開 優先利用 |
萌芽 | 重点 | ||||
| BL No. | 利用時期 | 専有 | 非専有 | ナノテク／ ナノネット |
産業利用 | ||||
| 10A | 10A第1期 | ||||||||
| BL01B1 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL02B1 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL02B2 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |
| BL04B1 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL04B2 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL08W | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL09XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL10XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL13XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ||
| BL14B2 | H22.4-H22.6 | ○ | ○ | ○ | ○ | ||||
| BL19B2 | H22.4-H22.6 | ○ | ○ | ○ | ○ | ||||
| BL20B2 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| BL20XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| BL25SU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |
| BL27SU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |
| BL28B2 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| BL35XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL37XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |
| BL38B1 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL39XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ||
| BL40B2 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |
| BL40XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| BL41XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| BL43IR | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| BL46XU | H22.4-H22.6 | ○ | ○ | ○ | ○ | ||||
| BL47XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |
| 理研ビームライン（4本） | |||||||||
| BL17SU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | ナノテク | ○ | |||
| BL26B1 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | |||||
| BL26B2 | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | |||||
| BL45XU | H22.4-H22.7 | ○ | ○ | ○ | |||||
| 専用ビームライン（5本） | |||||||||
| BL11XU | H22.4-H22.7 | ナノネット | |||||||
| BL14B1 | H22.4-H22.7 | ナノネット | |||||||
| BL15XU | H22.4-H22.7 | ナノネット | |||||||
| BL22XU | H22.4-H22.7 | ナノネット | |||||||
| BL23SU | H22.4-H22.7 | ナノネット | |||||||
6. 問い合わせ先
〒679-5198 兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1
財団法人 高輝度光科学研究センター 利用業務部
TEL：0791-58-0961 FAX：0791-58-0965
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