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Volume 10, No.5 Pages 283 - 285

1. SPring-8の現状/PRESENT STATUS OF SPring-8

2006A 重点ナノテクノロジー総合支援プロジェクト対象課題の募集について
Call for 2006A Nanonet Proposals (under the Nanotechnology Researchers Network Project)

放射光利用研究促進機構 (財)高輝度光科学研究センター Organization for the Promotion of Synchrotron Radiation Research, JASRI

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 財団法人高輝度光科学研究センター(以下JASRIという)は独立行政法人日本原子力研究開発機構(以下JAEAという)および独立行政法人物質・材料研究機構(以下物材機構という)とともに、文部科学省が平成14年度から開始した、「ナノテクノロジー総合支援プロジェクト」のうち「放射光を活用した解析支援」を行う機関として、SPring-8の放射光特性を活用すれば特に高い成果が得られるテーマのナノテクノロジー研究課題について支援を行います。本支援についての詳細はホームページ(http://www.spring8.or.jp/nano_tech/)をご参照ください。

 支援対象課題の申請受付、選定等はJAEAおよび物材機構のビームラインを利用する課題も含めJASRIが一元的に行います。2006A利用期間(平成18年3月~平成18年7月)について以下の要領でご応募ください。

 なお、今回から国の先端大型研究施設戦略活用プログラムとの二重応募を受け付けないこととなりましたので、ご注意下さい。


1.支援する研究テーマと利用するビームライン

(表1参照)

N1:磁気記憶材料等の元素別磁化測定(BL39XU)

N2:半導体等ナノ薄膜の表面・界面構造解析 (BL13XU)

N3:新機能ナノ材料の光電子分光、磁気円二色性測定(BL25SU)

 〃 光電子顕微鏡によるナノ材料解析(BL25SU、またはBL27SUかBL17SU)

N4:新規ナノ材料の精密結晶構造評価(BL02B2)

N5:X線マイクロビームによるトモグラフィー(BL47XU)

 〃 硬X線電子分光によるナノ薄膜、界面の解析(BL47XU)

N6:微粒子及びナノ薄膜の電子分光(BL27SU)

N7:蛍光X線分析法による微量元素マッピング(BL37XU)

N8:核共鳴散乱法による局所構造と電子状態の研究(BL11XU)

N9:電気化学における固/液界面構造解析(BL14B1)

N10:極薄膜形成過程のその場光電子分光解析(BL23SU)

N11:高精度小角散乱によるナノ凝縮体解析(BL15XU)

N12:高エネルギー内殻光電子分光(BL15XU)

N13:原子層制御結晶成長過程のその場観察(BL11XU)

N14:ナノ粒子・ナノドメインの静的・動的構造研究(BL22XU)


2.支援内容

 A.最適な実験計画の立案・指導

 B.利用技術の指導・助言

 C.実験結果の解析・評価に対する助言

 D.その他

 (但し、旅費については2004A期より支援が出来なくなりました。)


3.ビームタイム

 支援するテーマを行う各ビームラインについて全ユーザービームタイムの20%程度(40シフト程度)を予定しています。


4.応募方法

 Webサイトを利用した電子申請となります。以下のUser Informationウェブサイトから申請して下さい。一般課題の入力項目の他に、ナノテク課題独自の入力項目は本誌280ページから281ページに示します。

 User Information : http://user.spring8.or.jp/

 トップページ>ログイン>課題申請

 課題を申請するには、まずユーザーカード番号とパスワードでログインする必要があります。まだユーザーカード番号を取得していない方は、ユーザー登録を行って下さい。

 なお、実験責任者は、ログインのアカウントのユーザー名で登録されるため、代理で課題申請書を作成する場合は、実験責任者のユーザーカード番号で作業の上、提出する必要があります。その場合、アカウントやパスワードの管理は実験責任者の責任の下でお願いします。

 また、Web申請にあたり、申請者(実験責任者)だけでなく共同実験者も全員ユーザー登録が必要となります。従って申請者(実験責任者)は、課題の申請手続きを行う前に、共同実験者に対してユーザー登録を行うように指示して下さい。

 詳しい入力方法については270ページの「SPring-8利用研究課題オンライン入力要領」をご参照下さい。入力項目は一般課題の申請に必要な項目に加えて「申請課題のナノテクノロジー分野における位置づけ・重要性」、「申請課題の実施により発展が期待されるナノメーター領域の技術、科学または産業分野等」を記述してください。

 ナノテク支援課題として不採択になった場合は、自動的に一般課題としての審査を行いますので、一般課題への二重申請は不要です。


 なお、JAEAのビームラインで行われる支援テーマのN8、N9、N10、N13、N14については申請前にJAEAの担当者に問い合わせてください。

 物材機構のビームラインで行われる支援テーマのN11、12については申請前に物材機構の担当者に問い合わせてください。

 それぞれの担当者連絡先は「共用ビームライン利用研究課題の募集について」の「表1 募集の対象となるビームライン」(本誌256ページ)を参照して下さい。


5.応募の締切

 平成17年11月15日(火)午前10時JST

 電子申請システムの動作確認は行っておりますが、予期せぬ動作不良等の発生も考えられます。申請書の作成(入力)は時間的余裕をもって行って頂きますようお願いいたします。Web入力に問題がある場合は「6.問い合わせ先」へ連絡してください。

 上記応募締め切り時刻までに連絡を受けた場合のみ別途送信方法の相談を受けます。申請が完了し、データが正常に送信されれば、受理通知と申請者控え用の誓約事項のPDFファイルがメールで送られます。


6.問い合わせ先

 〒679-5198 兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1

 (財)高輝度光科学研究センター 利用業務部

 「共用ビームライン利用研究課題募集係」

   平野志津、楠本久美

 TEL:0791-58-0961 FAX:0791-58-0965

 e-mail : sp8jasri@spring8.or.jp


7.審査について

 一般課題と同様の科学技術的重要性、研究手段としてのSPring-8の必要性、実験の実施可能性、実験の安全性についての総合的かつ専門的な審査に加え、ナノテク課題としての科学技術的重要性や研究戦略について審査を行う。


8.審査結果の通知

 平成18年1月中旬の予定


9.その他

 当支援を受けた課題については課題終了後、利用報告書に加え、「ナノテク課題研究成果報告書」の提出を求めます。



表1 ナノテク支援プロジェクト研究テーマと主要なビームライン


詳しくは、PDFファイルをご参照下さい。



Print ISSN 1341-9668
[ - Vol.15 No.4(2010)]
Online ISSN 2187-4794