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タイトル・発表先
研究成果番号	987
登録日時	2007.01.30 10:55
DOI	10.1107/S0909049502003448
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル	Synchrotron-Radiation X-Ray Topography Surface Strain in Large-Diameter Silicon Wafers
日本語タイトル
発表形式	原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）	誌名 Journal of Synchrotron Radiation 巻 9 号 3 発行年 2002 頁 166-168
発表先（口頭／ポスター発表）	講演会名 The 5th Harima International Forum, Harima Conference (HIF 2001): New Aspect of X-ray Imaging Technology with Synchrotron Radiation - Present Status and Future Possibility - 開催日 2001.07.12-07.14 開催都市 Harima Science Garden City Hyogo, Japan
研究分野
研究手法

著者情報
	ユーザーカード番号	姓	名	所属
主著者	0003776	Kawado	Seiji	Rigaku Corporation
共著者 1	0001768	Iida	Satoshi	Toyama University
共著者 2	0006044	Yamaguchi	Satoshi	Toyama University
共著者 3	0004124	Kimura	Shigeru	NEC Corporation
共著者 4	0005461	Hirose	Yoshiharu	Toyota Central Research & Development Laboratories, Inc.
共著者 5	0001794	Kajiwara	Kentaro	JASRI
共著者 6	0001769	Chikaura	Yoshinori	Kyushu Institute of Technology
共著者 7	0005066	Umeno	Masataka	Osaka University