タイトル・発表先
研究成果番号
7368
登録日時
2007.01.30 10:56
DOI
10.1063/1.1864245
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
X-ray Diffraction Measurements of Internal Strain in Si Nanowires Fabricated using a Self-Limiting Oxidation Process
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Applied Physics Letters
巻
86
号
7
発行年
2005
頁
071903
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0001281
Shimura
Takayoshi
Osaka University
共著者 1
Yasutake
Kiyoshi
Osaka University
共著者 2
0005066
Umeno
Masataka
Fukui University of Technology
共著者 3
Nagase
Masao
NTT Basic Research Laboratories
関連課題情報
課題番号
2000B0068
ビームライン
BL09XU
実験責任者
志村 考功