タイトル・発表先
研究成果番号
704
登録日時
2007.01.30 10:55
DOI
10.1063/1.1290048
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
High-Resolution Microbeam X-Ray Diffractometry Applied to InGaAsP/InP Layers Grown by Narrow-Stripe Selective Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Applied Physics Letters
巻
77
号
9
発行年
2000
頁
1286-1288
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0004124
Kimura
Shigeru
NEC Corporation
共著者 1
0001267
Kimura
Hidekazu
NEC Corporation
共著者 2
0003403
Kobayashi
Kenji
NEC Corporation
共著者 3
0004654
Oohira
Tomoaki
NEC Corporation
共著者 4
0004081
Izumi
Koichi
NEC Corporation
共著者 5
Sakata
Yasutaka
NEC Corporation
共著者 6
0001231
Tsusaka
Yoshiyuki
Himeji Institute of Technology
共著者 7
0001341
Yokoyama
Kazushi
Himeji Institute of Technology
共著者 8
0003437
Takeda
Shingo
Himeji Institute of Technology
共著者 9
0004194
Urakawa
Masafumi
Himeji Institute of Technology
共著者 10
0001230
Kagoshima
Yasushi
Himeji Institute of Technology
共著者 11
0001232
Matsui
Junji
Himeji Institute of Technology
関連課題情報
課題番号
C99B0545
ビームライン
BL24XU
実験責任者
木村 滋