タイトル・発表先
6287
2007.01.30 10:56
10.1063/1.1737793
X-ray Photoelectron Spectroscopy Study on SiO2/Si Interface Structures Formed by Three Kinds of Atomic Oxygen at 300℃
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
Applied Physics Letters
84 19 2004 3756-3758
著者情報
 
主著者 0009776 Shoji Masatoshi Musashi Institute of Technology
共著者 1 0008045 Shiraishi Takayoshi Musashi Institute of Technology
共著者 2 0008044 Takahashi Kensuke Musashi Institute of Technology
共著者 3 0008035 Nohira Hiroshi Musashi Institute of Technology
共著者 4 0013310 Azuma Kazufumi Advanced LCD Technologies Development Center Co., Ltd.
共著者 5 Nakata Yukihiko Advanced LCD Technologies Development Center Co., Ltd.
共著者 6 0001866 Takata Yasutaka SPring-8/RIKEN
共著者 7 0001732 Shin Shik SPring-8/RIKEN
共著者 8 0001835 Kobayashi Keisuke SPring-8/JASRI
共著者 9 0007880 Hattori Takeo Musashi Institute of Technology
関連課題情報
2003B0103 BL27SU 服部 健雄