タイトル・発表先
研究成果番号
5399
登録日時
2007.01.30 10:56
DOI
10.1143/JJAP.42.7129
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Two-Dimensional Submicron Focusing of Hard X-Rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Japanese Journal of Applied Physics
巻
42
号
11
発行年
2003
頁
7129-7134
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
Yamauchi
Kazuto
Osaka University
共著者 1
Yamamura
Kazuya
Osaka University
共著者 2
Mimura
Hidekazu
Osaka University
共著者 3
Sano
Yasuhisa
Osaka University
共著者 4
0003282
Saito
Akira
Osaka University
共著者 5
Endo
Katsuyoshi
Osaka University
共著者 6
0002087
Souvorov
Alexei
SPring-8/JASRI
共著者 7
0000387
Yabashi
Makina
SPring-8/JASRI
共著者 8
0000342
Tamasaku
Kenji
SPring-8/RIKEN
共著者 9
0000179
Ishikawa
Tetsuya
SPring-8/RIKEN
共著者 10
Mori
Yuzo
Osaka University
関連課題情報
課題番号
None
ビームライン
BL29XU
利用施設
SPring-8
サイト内分類項目
Optics