タイトル・発表先
研究成果番号
5323
登録日時
2007.01.30 10:56
DOI
10.1063/1.1606531
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Fabrication of Elliptical Mirror at Nanometer-Level Accuracy for Hard X-Ray Focusing by Numerically Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Review of Scientific Instruments
巻
74
号
10
発行年
2003
頁
4549-4553
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
Yamamura
Kazuya
Osaka University
共著者 1
Yamauchi
Kazuto
Osaka University
共著者 2
Mimura
Hidekazu
Osaka University
共著者 3
Sano
Yasuhisa
Osaka University
共著者 4
0003282
Saito
Akira
Osaka University
共著者 5
Endo
Katsuyoshi
Osaka University
共著者 6
0002087
Souvorov
Alexei
SPring-8/JASRI
共著者 7
0000387
Yabashi
Makina
SPring-8/JASRI
共著者 8
0000342
Tamasaku
Kenji
SPring-8/RIKEN
共著者 9
0000179
Ishikawa
Tetsuya
SPring-8/RIKEN
共著者 10
Mori
Yuzo
Osaka University
関連課題情報
課題番号
None
ビームライン
BL29XU
利用施設
SPring-8
サイト内分類項目
Optics