タイトル・発表先
研究成果番号
4757
登録日時
2007.01.30 10:56
DOI
10.1016/S1369-8001(02)00130-0
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
X-Ray Characterization of Crystal Perfection and Surface Contamination in Large-Diameter Silicon Wafers
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Materials Science in Semiconductor Processing
巻
5
号
4-5
発行年
2003
頁
435-444
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
E-MRS 2002 Spring Meeting, Symposium 2002
開催日
2002.06.19-06.21
開催都市
Strasbourg, France
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0003776
Kawado
Seiji
Rigaku Corporation
関連課題情報
課題番号
2001A0053
ビームライン
BL20B2
実験責任者
川戸 清爾
課題番号
2001A0096
ビームライン
BL20B2
実験責任者
飯田 敏
課題番号
2001B0306
ビームライン
BL20B2
実験責任者
川戸 清爾