タイトル・発表先
41795
2021.05.26 09:25
10.1049/ell2.12213
https://doi.org/10.1049/ell2.12213
Generation of Two-dimensional Electron Gas to Normally Depleted AlGaN/GaN Hetero-interface by SiO2 Deposition and Subsequent High-temperature Annealing
原著論文/博士論文/査読付プロシーディングス
Electronics Letters
57 17 2021 670-671
[A80] 産業利用
[M50] 光電子分光
著者情報
 
主著者 0053013 Nanjo Takuma Mitsubishi Electric Corporation
共著者 1 Koyama Hidetoshi Mitsubishi Electric Corporation
共著者 2 0039245 Imazawa Takashi Mitsubishi Electric Corporation
共著者 3 0034687 Kiyoi Akira Mitsubishi Electric Corporation
共著者 4 Imai Akifumi Mitsubishi Electric Corporation
共著者 5 Hayashida Tetsuro Mitsubishi Electric Corporation
共著者 6 Watahiki Tatsuro Mitsubishi Electric Corporation
共著者 7 Yamamoto Yoshitsugu Mitsubishi Electric Corporation
共著者 8 Miura Naruhisa Mitsubishi Electric Corporation
関連課題情報
2019B5130 BL16XU 今澤 貴史
2020A5131 BL16XU 今澤 貴史