タイトル・発表先
研究成果番号
40330
登録日時
2020.08.17 09:35
DOI
10.35848/1347-4065/abab45
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
X-ray Photoelectron Spectroscopy Insights on Interfaces between SiO
2
Films and GaN Substrates: Differences Due to Depositional Technique
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Japanese Journal of Applied Physics
巻
59
号
9
発行年
2020
頁
090902
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
[A80] 産業利用
研究手法
[M50] 光電子分光
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0006869
Isomura
Noritake
Toyota Central Research and Development Laboratories, Inc.
共著者 1
Soejima
Narumasa
Toyota Central Research and Development Laboratories, Inc.
共著者 2
0017298
Mori
Tomohiko
Toyota Central Research and Development Laboratories, Inc.
共著者 3
Ikeda
Satoshi
Toyota Motor Corporation
共著者 4
Watanabe
Atsushi
Toyota Motor Corporation
共著者 5
Ohkawa
Takashi
Toyota Motor Corporation
共著者 6
0037819
Tomita
Hidemoto
Toyota Motor Corporation
関連課題情報
課題番号
2019B5071
ビームライン
BL16XU
実験責任者
高橋 直子