タイトル・発表先
39553
2020.03.06 10:27
10.4028/www.scientific.net/MSF.924.180
X-Ray Topography Analysis of 4H-SiC Crystals Grown by the High-Temperature Gas Source Method
原著論文/博士論文/査読付プロシーディングス
Materials Science Forum
924 2018 180
[A80] 産業利用
[M60] X線イメージング
著者情報
 
主著者 0009160 Kamata Isaho Central Research Institute of Electric Power Industry
共著者 1 Hoshino Norihiro
共著者 2 0039591 Tokuda Yuichiro National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
共著者 3 Makino Emi
共著者 4 0006527 Sugiyama Naohiro National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
共著者 5 Kuno Hironari
共著者 6 Kojima Jun
共著者 7 0013411 Tsuchida Hidekazu Central Research Institute of Electric Power Industry
関連課題情報
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