タイトル・発表先
研究成果番号
38691
登録日時
2019.09.17 12:29
DOI
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Synchrotron X-ray Photoelectron Spectroscopy on Interface State Densities of CVD-Grown SiO
2
/4H-SiC Structures Treated by Post-Deposition Treatments
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Extended Abstract (Proceedings) of 2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
巻
号
発行年
2019
頁
741-742
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2019)
開催日
2019.09.02-09.05
開催都市
Nagoya, Japan
研究分野
[A80] 産業利用
研究手法
[M50] 光電子分光
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0034687
Kiyoi
Akira
Mitsubishi Electric Corporation
共著者 1
0018695
Suwa
Tomoyuki
Tohoku University
共著者 2
0015560
Teramoto
Akinobu
Tohoku University
共著者 3
0005022
Kawase
Kazumasa
Mitsubishi Electric Corporation
関連課題情報
課題番号
2017B5130
ビームライン
BL16XU
実験責任者
清井 明
課題番号
2018A5130
ビームライン
BL16XU
実験責任者
清井 明
課題番号
2018B5130
ビームライン
BL16XU
実験責任者
今澤 貴史