タイトル・発表先
研究成果番号
19096
登録日時
2011.06.30 02:28
DOI
10.1149/1.3481635
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Study of HfO
2
/Si/Strained-Ge/SiGe Using Angle Resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
ECS Transactions
巻
33
号
3
発行年
2010
頁
467-472
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0027293
Komatsu
Arata
Tokyo City University
共著者 1
Nasu
Kentarou
Tokyo City University
共著者 2
Hoshi
Yusuke
Tokyo City University
共著者 3
Kurebayashi
Toru
Tokyo City University
共著者 4
Sawano
Kentarou
Tokyo City University
共著者 5
Myronov
Maksym
The University of Warwick
共著者 6
0008035
Nohira
Hiroshi
Tokyo City University
共著者 7
Shiraki
Yasuhiro
Tokyo City University
関連課題情報
課題番号
2009B0026
ビームライン
BL46XU
実験責任者
宮崎 誠一
課題番号
2010A0026
ビームライン
BL46XU
実験責任者
宮崎 誠一
課題番号
2009A1754
ビームライン
BL47XU
実験責任者
野平 博司