タイトル・発表先
19096
2011.06.30 02:28
10.1149/1.3481635
Study of HfO2/Si/Strained-Ge/SiGe Using Angle Resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
原著論文/博士論文/査読付プロシーディングス
ECS Transactions
33 3 2010 467-472
著者情報
 
主著者 0027293 Komatsu Arata Tokyo City University
共著者 1 Nasu Kentarou Tokyo City University
共著者 2 Hoshi Yusuke Tokyo City University
共著者 3 Kurebayashi Toru Tokyo City University
共著者 4 Sawano Kentarou Tokyo City University
共著者 5 Myronov Maksym The University of Warwick
共著者 6 0008035 Nohira Hiroshi Tokyo City University
共著者 7 Shiraki Yasuhiro Tokyo City University
関連課題情報
2009B0026 BL46XU 宮崎 誠一
2010A0026 BL46XU 宮崎 誠一
2009A1754 BL47XU 野平 博司