タイトル・発表先
研究成果番号
18974
登録日時
2011.06.25 16:33
DOI
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Study on Epitaxial Process of Graphene by Thermal Annealing of 3C-SiC/Si
日本語タイトル
Si基板上3C-SiC薄膜の熱改質によるエピタキシャルグラフェン形成とその高品質化に関する研究
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Doctoral Thesis (Tohoku University)
巻
号
発行年
2011
頁
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0025238
Handa
Hiroyuki
Tohoku University
関連課題情報
課題番号
2009B1735
ビームライン
BL17SU
実験責任者
吹留 博一
課題番号
2010A1674
ビームライン
BL17SU
実験責任者
吹留 博一
課題番号
2010B1712
ビームライン
BL17SU
実験責任者
吹留 博一