タイトル・発表先
研究成果番号
17960
登録日時
2010.11.26 14:27
DOI
10.1149/1.3481610
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Synchrotron Radiation Photoelectron Spectroscopy of Metal Gate / HfSiO(N) / SiO(N) / Si Stack Structures
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
ECS Transactions
巻
33
号
3
発行年
2010
頁
231-240
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
218th ECS Meetings
開催日
2010.10.10-10.15
開催都市
Las Vegas, USA
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0004068
Oshima
Masaharu
The University of Tokyo
共著者 1
0017294
Toyoda
Satoshi
The University of Tokyo
共著者 2
0021674
Kamada
Hiroyuki
The University of Tokyo
共著者 3
0019539
Tanimura
Tatsuhiko
The University of Tokyo
共著者 4
0023376
Nakamura
Yuki
The University of Tokyo
共著者 5
0002632
Horiba
Koji
The University of Tokyo
共著者 6
0014918
Kumigashira
Hiroshi
The University of Tokyo
関連課題情報
課題番号
2009B7402
ビームライン
BL07LSU
実験責任者
組頭 広志
課題番号
2010A7402
ビームライン
BL07LSU
実験責任者
組頭 広志