タイトル・発表先
研究成果番号
16882
登録日時
2010.05.20 20:57
DOI
10.14723/tmrsj.34.617
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Non-destructive Analysis on Oxidation States of Ti Atoms in the Passivation Film Formed on SUS321 Using Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Transactions of the Materials Research Society of Japan
巻
34
号
4
発行年
2009
頁
617-620
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
埋もれた界面のＸ線・中性子解析に関するワークショップ2009
開催日
2009.07.13-07.14
開催都市
Tokyo, Japan
研究分野
[A10] 生命科学
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0009827
Takahashi
Shin
Kobelco Research Institute, Inc.
共著者 1
0004550
Yokomizo
Mitsutoshi
Kobelco Research Institute, Inc.
共著者 2
0002072
Sato
Masugu
SPring-8/JASRI
共著者 3
0005913
Machida
Masatake
SPring-8/JASRI
共著者 4
0000618
Son
JinYoung
SPring-8/JASRI
関連課題情報
課題番号
2009A1841
ビームライン
BL46XU
実験責任者
横溝 臣智