タイトル・発表先
16796
2010.04.22 19:02
10.1143/JJAP.49.04DD11
Study of Charge Trap Sites in SiN Films by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy
原著論文/博士論文/査読付プロシーディングス
Japanese Journal of Applied Physics
49 4 2010 04DD11
[A10] 生命科学
著者情報
 
主著者 0015901 Kosemura Daisuke Meiji University
共著者 1 0020331 Takei Munehisa Meiji University
共著者 2 Nagata Kohki Meiji University
共著者 3 0023947 Akamatsu Hiroaki Meiji University
共著者 4 0022858 Hattori Maki Meiji University
共著者 5 Katayama Daisuke Tokyo Electron AT
共著者 6 0024071 Nishita Tatsuo Tokyo Electron AT
共著者 7 Hirota Yoshihiro Tokyo Electron AT
共著者 8 0005913 Machida Masatake SPring-8/JASRI
共著者 9 0000618 Son JinYoung SPring-8/JASRI
共著者 10 0005256 Koganezawa Tomoyuki SPring-8/JASRI
共著者 11 0002088 Hirosawa Ichiro SPring-8/JASRI
共著者 12 0015928 Ogura Atsushi Meiji University
関連課題情報
2008B1917 BL46XU 小椋 厚志
2008B2073 BL46XU 小椋 厚志