タイトル・発表先
研究成果番号
14778
登録日時
2009.10.23 16:31
DOI
10.1143/JJAP.48.101401
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Densification of Chemical Vapor Deposition Silicon Dioxide Film Using Ozone Treatment
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Japanese Journal of Applied Physics
巻
48
号
10
発行年
2009
頁
101401
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
[A10] 生命科学
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0005022
Kawase
Kazumasa
Mitsubishi Electric Corporation
共著者 1
Noda
Seiji
Mitsubishi Electric Corporation
共著者 2
Nakai
Takafumi
Mitsubishi Electric Corporation
共著者 3
0004121
Uehara
Yasushi
Mitsubishi Electric Corporation
関連課題情報
課題番号
2007B5130
ビームライン
BL16XU
実験責任者
河瀬 和雅