タイトル・発表先
14532
2009.08.18 15:12
10.1149/1.3122447
Improvement of CVD SiO2 by Post Deposition Microwave Plasma Treatment
原著論文/博士論文/査読付プロシーディングス
ECS Transactions
19 9 2009 45-51
[A10] 生命科学
著者情報
 
主著者 0023948 Nagata Kohki Meiji University
共著者 1 0023947 Akamatsu Hiroaki Meiji University
共著者 2 0015901 Kosemura Daisuke Meiji University
共著者 3 0019092 Yoshida Tetsuya Meiji University
共著者 4 0020331 Takei Munehisa Meiji University
共著者 5 0022858 Hattori Maki Meiji University
共著者 6 0015928 Ogura Atsushi Meiji University
共著者 7 0005256 Koganezawa Tomoyuki SPring-8/JASRI
共著者 8 0005913 Machida Masatake SPring-8/JASRI
共著者 9 0000618 Son JinYoung SPring-8/JASRI
共著者 10 0002088 Hirosawa Ichiro SPring-8/JASRI
共著者 11 Shiozawa T. Tokyo Electron AT, Ltd.
共著者 12 Katayama D. Tokyo Electron AT, Ltd.
共著者 13 Sato Y. Tokyo Electron AT, Ltd.
共著者 14 Hirota Y. Tokyo Electron AT, Ltd.
関連課題情報
2008B1917 BL46XU 小椋 厚志
2008B2073 BL46XU 小椋 厚志