タイトル・発表先
研究成果番号
14532
登録日時
2009.08.18 15:12
DOI
10.1149/1.3122447
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Improvement of CVD SiO
2
by Post Deposition Microwave Plasma Treatment
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
ECS Transactions
巻
19
号
9
発行年
2009
頁
45-51
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
[A10] 生命科学
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0023948
Nagata
Kohki
Meiji University
共著者 1
0023947
Akamatsu
Hiroaki
Meiji University
共著者 2
0015901
Kosemura
Daisuke
Meiji University
共著者 3
0019092
Yoshida
Tetsuya
Meiji University
共著者 4
0020331
Takei
Munehisa
Meiji University
共著者 5
0022858
Hattori
Maki
Meiji University
共著者 6
0015928
Ogura
Atsushi
Meiji University
共著者 7
0005256
Koganezawa
Tomoyuki
SPring-8/JASRI
共著者 8
0005913
Machida
Masatake
SPring-8/JASRI
共著者 9
0000618
Son
JinYoung
SPring-8/JASRI
共著者 10
0002088
Hirosawa
Ichiro
SPring-8/JASRI
共著者 11
Shiozawa
T.
Tokyo Electron AT, Ltd.
共著者 12
Katayama
D.
Tokyo Electron AT, Ltd.
共著者 13
Sato
Y.
Tokyo Electron AT, Ltd.
共著者 14
Hirota
Y.
Tokyo Electron AT, Ltd.
関連課題情報
課題番号
2008B1917
ビームライン
BL46XU
実験責任者
小椋 厚志
課題番号
2008B2073
ビームライン
BL46XU
実験責任者
小椋 厚志