タイトル・発表先
研究成果番号
12499
登録日時
2008.05.26 14:32
DOI
10.1063/1.2921052
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
A Hydrogen Storage Layer on the Surface of Silicon Nitride Films
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Applied Physics Express
巻
92
号
19
発行年
2008
頁
192115
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0014110
Liu
Ziyuan
NEC Electronics Corporation
共著者 1
Ito
Shuu
NEC Electronics Corporation
共著者 2
Wilde
Markus
The University of Tokyo
共著者 3
Funahashi
Katuyuki
The University of Tokyo
共著者 4
0002088
Hirosawa
Ichiro
SPring-8/JASRI
共著者 5
0005256
Koganezawa
Tomoyuki
SPring-8/JASRI
関連課題情報
課題番号
2007A1202
ビームライン
BL46XU
実験責任者
小金澤 智之