タイトル・発表先
研究成果番号
12169
登録日時
2008.02.19 13:10
DOI
オープンアクセスジャーナルURL
https://jp.ricoh.com/technology/techreport/33/
英語タイトル
Nanometer-scale Patterning of ZnS-SiO
2
by Heat-mode Lithography
日本語タイトル
ヒートモードリソグラフィーによるZnS-SiO
2
微細パターン形成技術
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Ricoh Technical Report
巻
号
33
発行年
2007
頁
36-43
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0017143
Miura
Hiroshi
Ricoh Co., Ltd.
共著者 1
0017191
Toyoshima
Nobuaki
Ricoh Co., Ltd.
共著者 2
0018781
Takeuchi
Kohji
Ricoh Co., Ltd.
共著者 3
0004717
Mori
Tetsuji
Ricoh Co., Ltd.
共著者 4
0004263
Iwata
Noriyuki
Ricoh Co., Ltd.
関連課題情報
課題番号
2006A0206
ビームライン
BL46XU
実験責任者
三浦 博