タイトル・発表先
12169
2008.02.19 13:10
https://jp.ricoh.com/technology/techreport/33/
Nanometer-scale Patterning of ZnS-SiO2 by Heat-mode Lithography
ヒートモードリソグラフィーによるZnS-SiO2微細パターン形成技術
原著論文/博士論文/査読付プロシーディングス
Ricoh Technical Report
33 2007 36-43
著者情報
 
主著者 0017143 Miura Hiroshi Ricoh Co., Ltd.
共著者 1 0017191 Toyoshima Nobuaki Ricoh Co., Ltd.
共著者 2 0018781 Takeuchi Kohji Ricoh Co., Ltd.
共著者 3 0004717 Mori Tetsuji Ricoh Co., Ltd.
共著者 4 0004263 Iwata Noriyuki Ricoh Co., Ltd.
関連課題情報
2006A0206 BL46XU 三浦 博