タイトル・発表先
研究成果番号
11930
登録日時
2008.01.04 18:16
DOI
10.1149/1.2728797
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Bias Temperature Instability Characterization of Advanced Gate Stacks
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
ECS Transactions
巻
6
号
3
発行年
2007
頁
185-202
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
Fujieda
Shinji
NEC Corporation
共著者 1
Terai
Masayuki
NEC Corporation
共著者 2
Saitoh
Motofumi
NEC Corporation
共著者 3
Toda
Akio
NEC Corporation
共著者 4
Miura
Yoshinao
NEC Corporation
共著者 5
Liu
Ziyuan
NEC Corporation
共著者 6
0000390
Teraoka
Yuden
JAEA
共著者 7
0001305
Yoshigoe
Akitaka
JAEA
共著者 8
0004404
Wilde
Markus
The University of Tokyo
共著者 9
0003164
Fukutani
Katsuyuki
The University of Tokyo
関連課題情報
課題番号
2005B3803
ビームライン
BL23SU
実験責任者
寺岡 有殿