タイトル・発表先
研究成果番号
1105
登録日時
2007.01.30 10:55
DOI
10.1016/S0168-9002(01)00578-2
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Study of Local Strain Distribution in Semiconductor Devices Using High-Resolution X-Ray Microbeam Diffractometry
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A
巻
467-468
号
2
発行年
2001
頁
1205-1208
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI)
開催日
2000.08.21-08.25
開催都市
Berlin, Germany
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
0001341
Yokoyama
Kazushi
Himeji Institute of Technology
共著者 1
0003437
Takeda
Shingo
Himeji Institute of Technology
共著者 2
0004194
Urakawa
Masafumi
Himeji Institute of Technology
共著者 3
0001231
Tsusaka
Yoshiyuki
Himeji Institute of Technology
共著者 4
0001230
Kagoshima
Yasushi
Himeji Institute of Technology
共著者 5
0001232
Matsui
Junji
Himeji Institute of Technology
共著者 6
0004124
Kimura
Shigeru
NEC Corporation
共著者 7
0001267
Kimura
Hidekazu
NEC Corporation
共著者 8
0003403
Kobayashi
Kenji
NEC Corporation
共著者 9
0004654
Ohhira
Tomoaki
NEC Corporation
共著者 10
0004081
Izumi
Koichi
NEC Corporation
共著者 11
0001797
Miyamoto
Naoki
SPring-8 Service Co., Ltd.
関連課題情報
課題番号
C99B0541
ビームライン
BL24XU
実験責任者
松井 純爾