タイトル・発表先
研究成果番号
10135
登録日時
2007.01.30 10:57
DOI
10.1063/1.2353781
オープンアクセスジャーナルURL
英語タイトル
Detailed Structural Analysis and Dielectric Properties of Silicon Nitride Film Fabricated Using Pure Nitrogen Plasma Generated Near Atmospheric Pressure
日本語タイトル
発表形式
原著論文／博士論文／査読付プロシーディングス
発表先（出版）
誌名
Journal of Applied Physics
巻
100
号
7
発行年
2006
頁
073710
発表先（口頭／ポスター発表）
講演会名
開催日
開催都市
研究分野
研究手法
著者情報
ユーザーカード番号
姓
名
所属
コレスポンディング
オーサー
主著者
Hayakawa
Ryoma
Osaka Prefecture University
共著者 1
Nakae
Mari
Osaka Prefecture University
共著者 2
Yoshimura
Takeshi
Osaka Prefecture University
共著者 3
Ashida
Atsushi
Osaka Prefecture University
共著者 4
Fujimura
Norifumi
Osaka Prefecture University
共著者 5
Uehara
Tsuyoshi
Sekisui Chenical Co., Ltd.
共著者 6
0002812
Tagawa
Masahito
Kobe University
共著者 7
0000390
Teraoka
Yuden
JAEA
関連課題情報
課題番号
2005B0102
ビームライン
BL23SU
実験責任者
田川 雅人